中新社紐約十二月十九日電 (鄧悅)原定于二OO九年竣工的紐約世貿遺址綜合紀念場(chǎng)館將推后兩年完工。負責監管該工程的發(fā)言人周二表示，新的時(shí)間表反映了更為切合實(shí)際的工程進(jìn)度。
名為“倒映(反思)遺缺”的紀念碑廣場(chǎng)以及旁邊的地下紀念博物館原本都定于二OO九年的“九一一”紀念日當天開(kāi)放。
按照該新進(jìn)度，紀念碑廣場(chǎng)將于二O一O年接近完工，而“九一一”紀念博物館則要二O一一年才能完工開(kāi)館。據發(fā)言人介紹，紐約世貿遺址綜合紀念場(chǎng)館將于“九一一”事件十周年時(shí)全面竣工和對外開(kāi)放。
紐約世貿遺址紀念場(chǎng)館于二OO六年春天開(kāi)始進(jìn)入施工，之后為了削減預算，整體設計被迫改變。原耗資十億美元的總工程削減為二億美元。盡管遭到不少“九一一”遇難者家屬的反對，紐約市府和相關(guān)機構還是批準了新的設計方案。新的設計使得地下博物館的規模變小，同時(shí)三千多名遇難者的名字也被轉移到了鄰近街區的低墻上。
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